国产光刻胶进入测试阶段,集成电路行业还需努力

5 月 22 日,南大光电国产193nmArF光刻胶产品正在测试阶段,在特殊历史时期紧紧抓住“替代进口”的机遇,为国内集成电路产业的发展突破瓶颈和国产化做出积极的贡献。

国产光刻胶进入测试阶段,集成电路行业还需努力
光刻胶

据悉,光刻胶属于集成电路行业中重要的原材料之一,用于晶圆蚀刻电路。目前光刻胶生产技术主要掌握在日本手中,由于光刻胶保存时间较短,且我国绝大多数光刻胶均从日本一个国家进口,一旦发展自然灾害、政治风险或者军事冲突,国内晶圆厂将面临关键原材料断供的窘境。
目前南大光电国产193nmArF光刻胶研发工作正在顺利推进,现阶段的研发进展和成果得到业界专家的认可。研发和产业化正在同步推进,公司计划在2020年底完成国家ArF光刻胶项目研发和产业化的验收工作。
国产光刻胶进入测试阶段,集成电路行业还需努力
南大光电

原创文章,作者:chengoes,如若转载,请注明出处:http://www.allchiphome.com/tech/%e5%8d%97%e5%a4%a7%e5%85%89%e7%94%b5193nm%e5%85%89%e5%88%bb%e8%83%b6%e8%bf%9b%e5%85%a5%e6%b5%8b%e8%af%95%e9%98%b6%e6%ae%b5%ef%bc%8c%e5%9b%bd%e4%ba%a7%e6%9b%bf%e4%bb%a3%e8%b6%8b%e5%8a%bf%e6%84%88

发表评论

您的电子邮箱地址不会被公开。 必填项已用*标注